研磨,在pekos球閥閥門制造過程中是其密封面常用的一種光整加工方法。研磨可以使pekos球閥閥門密封面獲得很高的尺寸精度、幾何形狀粗度及表面粗糙度,但不能提高密封面各表面間的相互位置精度。研磨后的pekos球閥閥門密封面通??梢缘降某叽缇葹?.001~0.003mm;幾何形狀精度(如不平度)為 0.001mm;表面粗糙度為0.1~0.008。 密封面研磨的基本原理包括研磨過程、研磨運(yùn)動(dòng)、研磨速度、研磨壓力及研磨余量五個(gè)方面。
1 研磨過程
研具與密封圈表面很好地巾合在一起,研具沿貼合表面作復(fù)雜的研磨運(yùn)動(dòng)。研具與密封圈表面間放有研磨劑,當(dāng)研具與密封圈表面相對(duì)運(yùn)動(dòng)時(shí),研磨劑中的部分磨粒在研具與密封圈表面間滑動(dòng)或滾動(dòng),切去密封圈表面上很薄的一層金屬。密封圈表面上的凸峰部分先被磨去,然后漸漸達(dá)到要求的幾何形狀。
研磨不僅是磨料對(duì)金屬的機(jī)械加工過程,同時(shí)還有化學(xué)作用。研磨劑中的油脂能使被加工表面形成氧化膜,從而加速了研磨過程。
2 研磨運(yùn)動(dòng)
研具與密封圈表面相對(duì)運(yùn)動(dòng)時(shí),密封圈表面上每一點(diǎn)對(duì)研具的相對(duì)滑動(dòng)路和都應(yīng)該相同。并且,相對(duì)運(yùn)動(dòng)的方向應(yīng)不斷變更。運(yùn)動(dòng)方向的不斷變化使每一磨粒不會(huì)在密封圈表面上重復(fù)自己運(yùn)動(dòng)軌跡,以免造成明顯的磨痕而增高密封圈表面的粗糙度。此外,運(yùn)動(dòng)方向的為斷變化不能使研磨劑分布得比較均勻,從而較均勻地切去密封圈表面的金屬。
研磨運(yùn)動(dòng)盡管復(fù)雜,運(yùn)動(dòng)方向盡管大變化,但研磨運(yùn)動(dòng)始終是沿著研具與密封圈表面的貼合表面進(jìn)行的。無論是手工研磨或機(jī)械研磨,密封圈表面的幾何形狀精度則主要受研具的幾何形狀精度及研磨運(yùn)動(dòng)的影響。
3 研磨速度
研磨運(yùn)動(dòng)的速度越快,研磨的效率也越高。研磨速度快,在單位時(shí)間內(nèi)工件表面上通過的磨粒比較多,切去的金屬也多。
研磨速度通常為10~240m/min。研磨精度要求高的工件,研磨速度一般不超過30m/min。pekos球閥閥門密封面的研磨速度與密封面的材料有關(guān),銅及鑄鐵密封面的研磨速度為10~45m/min;淬硬鋼及硬質(zhì)合金密封面為25~80m/min;奧氏體不銹鋼密封面為10~25m/min。
4 研磨壓力
研磨效率隨研磨壓力的增大而提高,研磨壓力不能過大,一般為0.01~0.4MPa。
研磨鑄鐵、銅及奧氏體不銹鋼材料的密封面時(shí),研磨壓力為0.1~0.3MPa;淬硬鋼和硬質(zhì)合金密封面為 0.15~0.4MPa。粗研時(shí)取較大值,精研時(shí)取較小值。
5 研磨余量
由于研磨是光整加工工序,故切削量很小。研磨余量的大小取決于上道工序的加工精度和表面粗糙度。在保證去除上道工序加工痕跡和修正密封圈幾何形狀誤差的前提下,研磨余量愈小愈好。
密封面研磨前一般應(yīng)經(jīng)過精磨。經(jīng)精磨后的密封面可直接精研,其小研磨余量為:直徑余量為0.008~0.020mm;平面余量為0.006~0.015mm。手工研磨或材料硬度較高時(shí)取小值,機(jī)械研磨或材料硬度較低時(shí)取大值。
閥體密封面不便磨削加工,可采用精車。精車后的密封面須粗研后才能進(jìn)行精研,其平面余量為0.012~0.050mm。